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中大研發低成本「萬能墨水」 簡化高性能晶片生產過程

中大已為此項技術申請專利

中大成功研發出一種「萬能墨水」,配合單步激光直接寫入技術,製作高性能晶片,大大減低生產成本及簡化高性能晶片的生產過程,中大亦已為此項技術申請專利。

研究團隊成員:(左起) 楊森、洪兆輝、陳一帆及盧穎琪。訪問學者Kim Kafenda、前中大研究助理教授夏慷蔚。中大提供

中大物理系助理教授楊森率領的研究團隊指出,近年廣泛應用的光刻技術,是目前生產高性能晶片的最先進方法。這項技術十分複雜,涉及多個繁瑣製備過程,包括旋塗光膠、定位、光刻、顯影、蒸鍍、電鍍、剝離等,並需要使用光刻儀、蒸鍍儀等一系列高昂的儀器,大大增加生產成本及難度。另一方面,基於納米金屬顆粒沉積的激光直接寫入技術,則受制於電學、力學及解析度,精確度有限。

研究團隊發現,傳統書法及水墨畫使用的碳素墨水中的碳納米顆粒,是「萬能墨水」最理想的原材料。中大提供

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