中國人民抗日戰爭暨世界反法西斯戰爭勝利80周年紀念活動新聞中心,舉行第三場記者招待會,介紹第四批國家級抗戰紀念設施、遺址名錄、著名抗日英烈與英雄群體名錄、抗戰紀念設施,以及抗戰遺址、遺物修補保護等方面情況。
在會上,退役軍人事務部副部長馬飛雄表示,為加強烈士陵園提質改造,累計投資2億7千萬元人民幣,實施43個抗戰烈士紀念設施建設項目;另外,實施全國縣級以下烈士紀念設施整修工程,協調補助資金20億元,推動7萬7千多座零散烈士墓,遷至烈士陵園。
香港電台
中國人民抗日戰爭暨世界反法西斯戰爭勝利80周年紀念活動新聞中心,舉行第三場記者招待會,介紹第四批國家級抗戰紀念設施、遺址名錄、著名抗日英烈與英雄群體名錄、抗戰紀念設施,以及抗戰遺址、遺物修補保護等方面情況。
在會上,退役軍人事務部副部長馬飛雄表示,為加強烈士陵園提質改造,累計投資2億7千萬元人民幣,實施43個抗戰烈士紀念設施建設項目;另外,實施全國縣級以下烈士紀念設施整修工程,協調補助資金20億元,推動7萬7千多座零散烈士墓,遷至烈士陵園。
中國商務部表示,安世半導體問題的根源是荷蘭政府對企業經營的不當行政干預,呼籲荷蘭政府立即撤銷有關行政令。
商務部發言人回應記者提問,表示中國政府本著對全球半導體產供鏈負責任的態度,已採取切實措施,對合規的民用芯片出口予以豁免,為半導體供應鏈穩定暢通創造必要條件,同時督促企業盡快透過協商解決內部糾紛。
發言人又說,據了解,安世母公司聞泰科技與安世荷蘭的負責人上周舉行首輪協商,解釋和澄清各自關注的問題,並同意繼續保持溝通。中方呼籲相關企業就控制權和恢復供應鏈問題進行協商,切實恢復全球半導體產供鏈。